HE-WDN2-72真空充氮烤箱
一、用途簡介:
真空充氮烤箱適用于光電、硅晶片、電子芯片、電池、線路板、電子電器、金屬加工、制藥等各行業(yè)作無氧真空快速干燥、退火等高溫處理,可充惰性氣體防止產品氧化。深受生產線、實驗室及科研單位喜愛。
二、主要技術指標:
規(guī)格型號: HE-WDN2-72 HE- WDN2-64 HE- WDN2-125 HE- WDN2-216 HE- WDN2-512 HE- WDN2-1000
內箱尺寸(cm): 30×30×30 40×40×40 50×50×50 60×60×60 80×80×80 100×100×100
外形尺寸(cm): 70×55×125 70×66×145 78×77×155 90×86×165 115×108×185 136×166×188
總功率: 3.5KW 4.5KW 5.5KW 9.0KW 15.0KW 20.0KW
使用電源: AC 單相 三線 220V 50HZ AC 三相 五線 380V 50HZ
溫度偏差: ±3% ±5% ±8%
真空泵: 4升 8升
溫度范圍(選擇):
□ RT+10℃~200℃
□ RT+10℃~250℃
□ RT+20℃~300℃
真空度范圍: 0~-100KPa
控制方式: 按鍵式控制或PLC觸摸屏控制
結構: 一體式結構(內置真空泵)或分體式(外置真空泵)
內箱材質: SUS304#不銹鋼
外箱材質: SECC鋼板高級烤漆處理
充氮氣裝置: 1)氮氣壓力范圍:3~4Kg左右;
2)流量計:量程為10L/min-100Lmin;
3)氣管配置:∮8mm氣管快插口;
4)充氮控制方式:采用時間自動控制或手動控制;
5)排氣閥:充氮氣的同時打開排氣閥,防止箱內高壓;
6)氮氣:氮氣源用戶自備。
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