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          充氮烤箱半導(dǎo)體應(yīng)用

          發(fā)布日期:2023-07-03      點(diǎn)擊:329

          充氮烤箱半導(dǎo)體應(yīng)用  充氮烤箱半導(dǎo)體應(yīng)用的好處

          充氮烤箱是一種常用的半導(dǎo)體器件制造工藝設(shè)備,它在半導(dǎo)體器件制造過程中起到保護(hù)和改善器件性能的作用。充氮烤箱的主要原理是通過在烤箱內(nèi)充入氮?dú)?,將氧氣排除,從而減少氧化反應(yīng)對器件的影響。在半導(dǎo)體器件制造的過程中,氮?dú)獾某淙肟梢杂行У乇Wo(hù)器件表面,防止氧化反應(yīng)的發(fā)生,提高器件的質(zhì)量和性能。

          充氮烤箱1.jpg

          充氮烤箱在半導(dǎo)體工藝中的應(yīng)用主要有以下幾個方面:

          1. 氧化反應(yīng)控制:充氮烤箱可以在器件制造過程中控制氧化反應(yīng)的程度和速率,從而實(shí)現(xiàn)對氧化層的控制,保證器件的質(zhì)量和性能。

          2. 氮?dú)獗Wo(hù):充氮烤箱可以在烘烤和退火過程中提供氮?dú)猸h(huán)境,避免氧化反應(yīng)的發(fā)生,防止器件表面被氧化,保護(hù)器件的性能。

          3. 清潔作用:氮?dú)饩哂休^高的純凈度,可以在烤箱內(nèi)形成凈化的環(huán)境,有效地減少雜質(zhì)的污染,保證器件表面的潔凈度。

          4. 去除氣體殘留:充氮烤箱中的氮?dú)饪梢匝杆賹⒖鞠鋬?nèi)的氣體殘留物吹散,減少對器件質(zhì)量的影響。

          總之,充氮烤箱在半導(dǎo)體器件制造過程中具有重要的應(yīng)用價值,可以提高器件的質(zhì)量和性能,保證器件制造的可靠性。                               一、設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域

          充氮烤箱也稱惰性氣氛保護(hù)烤箱應(yīng)用于半導(dǎo)體、芯片、新能源電池、光伏組件、LED光電、精密金屬、醫(yī)療器材汽車零件、通訊設(shè)備、化工等工業(yè)之烘烤、干燥預(yù)熱回火、老化等用途。該工業(yè)充氮烘烤箱是一種新型可營造無氧潔凈恒溫環(huán)境的電熱鼓風(fēng)干燥箱在加溫工作的同時充入氮?dú)?/span>,適用高溫易氧化產(chǎn)品的烘烤加熱。

          二、設(shè)備特點(diǎn)

          1) 外采用SECC鋼板、精粉體烤漆處理;內(nèi)采用SUS不銹鋼;

          2) 全新耐高溫長軸馬達(dá);

          3) 渦輪風(fēng)扇;

          4) 硅膠迫緊(Sillcon packing);

          5) 超溫保護(hù)超負(fù)載自動斷電系統(tǒng);

          6) 循環(huán)系統(tǒng)強(qiáng)制水平送風(fēng)循環(huán);

          7) 加熱系統(tǒng):PID+S.S.R;

          8) 溫控器:PID微電腦控制,全自動恒溫,溫度迅速補(bǔ)償功能;

          9) 計時器:溫到計時,時到斷電報警指示;

          10) 充氮裝置:氣體減壓閥,惰性氣體流量控制,通入流出箱內(nèi)管道。

          三、主要技術(shù)參數(shù):

          72L: 450×400×400(mm)

          RT+10℃~200℃ HE-N2-72II

          RT+15℃~300℃ HE-N2-72III

          RT+50℃~400℃ HE-N2-72IV

          100℃~500℃ HE-N2-72V

           

          125L: 500×500×500(mm)

          RT+10℃~200℃ HE-N2-125II

          RT+15℃~300℃ HE-N2-125III

          RT+50℃~400℃ HE-N2-125IV

          100℃~500℃ HE-N2-125V

           

          150L: 500×500×600(mm)

          RT+10℃~200℃ HE-N2-150II

          RT+15℃~300℃ HE-N2-150III

          RT+50℃~400℃ HE-N2-150IV

          100℃~500℃ HE-N2-150V

           

          216L: 600×600×600(mm)

          RT+10℃~200℃ HE-N2-216II

          RT+15℃~300℃ HE-N2-216III

          RT+50℃~400℃ HE-N2-216IV

          100℃~500℃ HE-N2-216V

          控制精度: ±0.5℃(恒定時)

          顯示精度: 0.1

          溫度波動度: ±1.0℃(恒定時)

          控制方式: 按鍵式控制或PLC程式觸摸屏控制

          氮?dú)饬髁浚?/span> 10L/min~60L/min

          送風(fēng)方式: 內(nèi)部熱風(fēng)循環(huán)

          玻璃視窗: 300℃以上機(jī)型無視窗

          隔層架: 標(biāo)配2

          使用電源: AC單相 三線 220V 50/60HZ  AC三相 五線 380V 50/60HZ

          保護(hù)裝置: 超溫保護(hù)、缺相保護(hù)、接地保護(hù)、過載保護(hù)、快速保險、斷路開關(guān)等

          充氮烤箱在半導(dǎo)體器件制造中的應(yīng)用有許多好處,包括:1. 氧化反應(yīng)控制:充氮烤箱可以控制氧化反應(yīng)的程度和速率,從而實(shí)現(xiàn)對氧化層的控制。這對于制造器件的質(zhì)量和性能至關(guān)重要。

          2. 氮?dú)獗Wo(hù):充氮烤箱提供氮?dú)猸h(huán)境,避免氧化反應(yīng)的發(fā)生,保護(hù)器件表面免受氧化的影響。這有助于提高器件的可靠性和長期穩(wěn)定性。

          3. 清潔作用:充氮烤箱中的氮?dú)饩哂休^高的純凈度,可以形成凈化的環(huán)境。這有助于減少雜質(zhì)的污染,保證器件表面的潔凈度。

          4. 熱量均勻分布:充氮烤箱能夠提供均勻的熱量分布,保證器件在烘烤和退火過程中的均勻加熱。這有助于避免熱應(yīng)力和溫度梯度對器件的影響。

          5. 去除氣體殘留:充氮烤箱中的氮?dú)饪梢钥焖賹⒖鞠鋬?nèi)的氣體殘留物吹散,減少對器件質(zhì)量的影響。

          綜上所述,充氮烤箱在半導(dǎo)體器件制造中的應(yīng)用有助于提高器件的質(zhì)量和性能,保證制造過程的可靠性,并且有利于減少污染和熱應(yīng)力對器件的影響。

           


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